西瓜地膜覆盖暖坑早熟栽培技术

近年来生产实践证明，采用地膜覆盖暖坑抢早直播西瓜的新技术是获得早熟、高产的重要途径。它是在适期直播地膜覆盖的基础上，经过研究改进而创造出来的简易有效的新方法，其优点：一是提高地温，改善幼苗生长的小气候；二是提前播种，比一般直播提前10～15天；三是早成熟，提早上市，效益显著。　　一、暖坑的作法　　（一）挖播种坑　　在整好的播种垄上，按株距挖播种坑。坑深15～18cm，然后往坑内施入发酵好的有机肥0.5～1.0公斤，土粪混匀，作成深10～12cm，宽15～18cm的浅坑。　　（二）播种、覆土　　坑内浇足底水，水渗完后，播2～3粒已浸过的或催芽的种子，播种后覆2～3cm厚的湿润细土。　　（三）覆膜　　播完后立即盖上地膜，地膜要平、直、紧的盖在垄上，每个播种坑就形成单个地下温室。在阳光照射下，不仅提高地温，也明显地提高了播种小坑的温度，形成光能加热的温暖小坑。　　二、品种选择　　采用此法可提早成熟，若再选用早熟品种，其早熟效果更好。既可采用早熟品种，也可采用中晚熟品种，都比一般地膜覆盖成熟早。　　三、适期播种　　通常适宜的播期是比一般地膜覆盖提早10～15天，即在终霜前10～15天播种为适期。具体播种时间应结合当地气候条件而定。　　四、破膜放苗　　待晚霜已过，气温稳定升高，要及时破膜放苗，把已有2－4片真叶的秧苗从暖坑拿出膜外，用手将地下坑稍整平，用湿土把根茎部与膜口盖严压实，让瓜苗在露天生长，根系仍在地膜保护下生长。　　五、防低温冻苗　　早春气温低，播种后要时刻注意天气变化，预防低温冷害和冻害。若降温，可在膜上撒一层干细土或用草盖住，等天气转暖时再将膜上的细土和或草等覆盖物除净。　　六、防高温烤苗　　早春气温多变，既要防止冻害，也要防高温烤苗。当外界气温达30℃时，坑内温度达40℃左右。在这种高温的条件下必须放风降温，严防高温烤苗。放风时在距坑内小苗北侧3～5cm处，把地膜扎手指粗的孔眼2－3个，促使地膜内通风换气。放风宜早，最好在上午9～10时进行，严防中午突然放大风闪苗。通常，在气温25℃以下又是多云天气，可不放风。其它管理同地膜覆盖栽培即可。